Горизонтальная печь для спекания используется в процессах реакции спекания, спекания без давления, спекания рекристаллизации, спекания горячего изостатического прессования керамики SiC, также могут быть использованы для спекания нитрида кремния и других керамических изделий.
подробнееПечь для спекания под давлением газа используется для вакуумного спекания и спекания Sic, Si3N4 и керамических изделий под давлением.
подробнееСуществует два типа данных печей: печи для пропитки при низкой температуре и печи для инфильтрации (пропитки расплавом) при высокой температуре.
подробнееВысокотемпературная печь для очистки графита используется для непрерывной очистки графитных порошков при высокой температуре. Также может проводиться очистка графита в сочетании термической и химической обработки.
подробнееДанная печь для очистки графитовых материалов предназначена для непрерывной очистки порошков графита и их изделий при высокой температуре. Также может осуществлять очистку в сочетании термической и химической обработки.
подробнееИспользуется для непрерывного предварительного окисления материалов на основе PAN, на асфальто-вискозной основе, на основе углеродного волокна в контролируемой кислородной среде.
подробнееОснованная в 2006 году, компания АСМЕ(Advanced Corporation for Materials & Equipments) является «национальным ключевым высокотехнологичным предприятием», специализирующимся на разработке и производстве термического оборудования и специальных материалов, партнером в аэрокосмической промышленности Китая.